Możliwość wytwarzania masek fotolitograficznych metodą elektronolitografii na własnych lub dostarczonych podłożach.

Parametry maski:

• Rozmiar podłoża maski 5” lub 7”
• Podłoże szklane
• Rozdzielczość wykonanego wzoru od 1 µm
• Grubość warstwy chromu 100 nm

Istnieje możliwość dobrania innej grubości warstwy chromu i innego materiału podłoża oraz uzyskania większej rozdzielczości.

Zapraszamy do kontaktu:

Grupa SEMINSYS

Mateusz Słowikowski
mateusz.slowikowski@pw.edu.pl