Maski fotolitograficzne
Możliwość wytwarzania masek fotolitograficznych metodą elektronolitografii na własnych lub dostarczonych podłożach.
Hitachi 8230
Ultrawysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy z zimną emisją polową, z funkcją pomiarów transmisyjnych.
Wytwarzanie warstw
Grupa procesów, których zadaniem jest syntezowanie materiałów, niezbędnych do tworzenia przyrządów na różnego rodzaju podłożach.
Definiowanie wzorów
Odwzorowywanie kształtów ma potrzeby technologii z użyciem fotolitografii oraz elektronolitografii.
Modyfikacja materiału
Modyfikacja właściwości elektrycznych, optycznych, chemicznych i/lub mechanicznych wytworzonych warstw.
Usuwanie warstw
Procesy pozwalające na trawienie oraz czyszczenie materiału w sposób kontrolowany.
Charakteryzacja
Charakteryzacja próbek przy użyciu mikroskopu optycznego, skaningowego mikroskopu elektronowego, elipsometru spektroskopowego.
Napylanie warstw metali
Nanoszenie warstw metali przy użyciu napylarki plazmowej Quorum Q150 TS.
ZOBACZ OFERTĘ
Analiza wielkości cząstek
Wielofunkcyjny analizator Zetasizer Nano ZS (Malvern) – umożliwia analizę wielkości cząstek/masy cząsteczkowej/potencjału zeta, dedykowany do pomiarów dyspersji koloidalnych (nanocząstki i mikrocząstki, białka, polimery itp.) oraz płaskich filmów (potencjał zeta powierzchni).
ZOBACZ OFERTĘ
