Ogólna charakterystyka

Urządzenie do litografii wiązką elektronową JBX9300 firmy Jeol pozwala na bezpośrednie rysowanie wzorów na warstwie rezystu.

Specyfikacja techniczna

• Urządzenie pozwala na pracę z pojedynczymi płytkami podłożowymi od kawałków do całych podłoży o średnicach 100 mm, 150 mm i 200 mm
• Stosowane napięcia przyśpieszające to 50 kV i 100 kV
• Minimalna wartość średnicy stosowanej do naświetlania wiązki elektronów < 5 nm, a minimalna szerokość uzyskanej linii – poniżej 20 nm
• Maksymalny obszar naświetlania bez konieczności stosowania zszywania (ang. stitching) to 1 mm2.

Zastosowanie

• Odwzorowywanie kształtów na podłożu w skali nano
• Prototypowanie/testowanie wzorów – duża elastyczność, przydatna zwłaszcza w fazie badań i prototypowania struktur i elementów
• Wytwarzanie masek do fotolitografii