Urządzenie do litografii wiązką elektronową

Możliwość wytwarzania masek fotolitograficznych metodą elektronolitografii na własnych lub dostarczonych podłożach.
 


ZOBACZ OFERTĘ


Ogólna charakterystyka

Urządzenie do litografii wiązką elektronową JBX9300 firmy Jeol pozwala na bezpośrednie rysowanie wzorów na warstwie rezystu.

Specyfikacja techniczna

  • Urządzenie pozwala na pracę z pojedynczymi płytkami podłożowymi od kawałków do całych podłoży o średnicach 100 mm, 150 mm i 200 mm
  • Stosowane napięcia przyśpieszające to 50 kV i 100 kV
  • Minimalna wartość średnicy stosowanej do naświetlania wiązki elektronów < 5 nm, a minimalna szerokość uzyskanej linii – poniżej 20 nm
  • Maksymalny obszar naświetlania bez konieczności stosowania zszywania (ang. stitching) to 1 mm2.

Zastosowanie

  • Odwzorowywanie kształtów na podłożu w skali nano
  • Prototypowanie/testowanie wzorów – duża elastyczność, przydatna zwłaszcza w fazie badań i prototypowania struktur i elementów
  • Wytwarzanie masek do fotolitografii

odwiedź nas w mediach społecznościowych

konsorcjanci CEZAMATU

nasi partnerzy