Ogólna charakterystyka

Urządzenie do trawienia w plazmie chlorowej przy pomocy jonów reaktywnych (RIE – ang. Reactive Ion Etching) PlasmaPro 100 ICP (ang. Inductively Coupled Plasma) firmy Oxford Instruments pozwala na selektywne, anizotropowe (o kontrolowanym profilu), i powtarzalne trawienie metodą RIE warstw technologicznych w plazmie.

Specyfikacja techniczna

• Próżniowa komora załadowcza (ang. Load-lock)
• Generator plazmy RF 13,56 MHz oraz źródło plazmy ICP 2 MHz
• Elektroda chłodzona cieczą w zakresie -30°C – 80°C
• Monitorowanie głębokości trawienia in-situ sterowanym komputerowo laserowym systemem interferometrycznym
• Możliwość pracy na pojedynczych podłożach o średnicy do 200 mm, jak również małych kawałkach

Zastosowanie

• Anizotropowe trawienie warstw aluminium (Al), polikrzemu (poly-Si), dwutlenku hafnu (HfO2), trójtlenku aluminium (Al2O3) i innych materiałów